光學鏡片清洗超純水要求

光學鏡片清洗主要包括鏡片、眼鏡框、玻璃器皿等清洗，為了保證清洗效果，不會有雜質殘留，需要使用高標準的清洗用水，光學鏡片清洗用超純水設備是一套于該行業(yè)清洗的設備，采用先進的制水技術，保證出水水質符合光學鏡片清洗用水標準。

光學鏡片清洗超純水要求：

加工中，鏡片的清洗主要是指鏡片拋光后殘余拋光液、黏結劑、保護性材料的清洗；鏡片磨邊后磨邊油、玻璃粉的清洗；鏡片鍍膜前手指印、口水圈以及各種附著物的清洗。傳統(tǒng)的清洗方法是利用擦拭材料配合化學試劑采取浸泡、擦拭等手段進行手工清擦。這種方法費時費力，清潔度差，顯然不適應現(xiàn)代規(guī)模化的光學冷加工行業(yè)。這迫使人們尋找一種機械化的清洗手段來代替。于是清洗技術逐步進入光學冷加工行業(yè)并大顯身手，進一步推動了光學冷加工業(yè)的發(fā)展。

清洗技術的基本原理，大致可以認為是利用產(chǎn)生的巨大作用力，在洗滌介質的配合下，促使物質發(fā)生一系列物理、化學變化以達到清洗目的的方法。清洗就是在液體清洗介質中，利用產(chǎn)生的巨大能量，通過物理、化學的綜合作用而達到洗凈目的的一種洗凈手段。

光學鏡片的清洗超純水設備工藝

1.反滲透+混床制取鏡片清洗用超純水

反滲透＋混床超純水系統(tǒng)的產(chǎn)水電阻率達到1-15兆姆25℃,采用雙極混床可達電阻率達到15-18兆歐姆25℃，應用領域十分廣泛。反滲透加混床超純水系統(tǒng)是利用反滲透系統(tǒng)除去水中95-97%以上的離子雜質,再用后級混床精處理,除去水中剩余離子,產(chǎn)水水質電阻率一般達到1-15兆歐姆25℃反滲透與混床的結合,有著設備投資省,運行成本低,管理維護方便等特點。

2.反滲透+EDI制取鏡片清洗用超純水

采用反滲透水處理設備與電去離子（EDI）設備進行搭配的的方式，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?，其基本工藝流程為：源水（箱?span>→原水泵→機械過濾器→活性炭過濾器→軟化器（根據(jù)水的硬度來選用）→精密過濾器→反滲透→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點

這種方法用來制取超純水的工藝，不需要用酸堿進行便可連續(xù)制取超純水，對環(huán)境沒什么破壞性。其缺點在于初投資相對以上兩種方式過于昂貴。

三、光學鏡片清洗用超純水設備設計優(yōu)勢

　　(1)系統(tǒng)采用新水處理技術雙級RO+EDI+混床模塊化設計，嚴格按新技術設計標準，確保水質穩(wěn)定，長效運行。

　　(2)通過專業(yè)技術設計，確保系統(tǒng)短時停機及長時間停機時水質保持穩(wěn)定。

　　(3)通過專業(yè)技術保證終端出水恒壓、水質穩(wěn)定。

　　(4)通過*的技術，大限度的提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運行成本。

　　(5)采用ESPA2超低壓膜，運行穩(wěn)定，能耗低。

　　(6)采用PH調節(jié)系統(tǒng)以確保水溫下降或原水PH值偏低時EDI出水水質。