管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)+水冷系統(tǒng)組成,溫度可以達(dá)到1200度,可以是單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等,極限真空可以達(dá)到10-3Pa

產(chǎn)品結(jié)構(gòu)：
由管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)+水冷系統(tǒng)組成 ，溫度可以達(dá)到1200度,可以是單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等，極限真空可以達(dá)到10-3Pa，供氣系統(tǒng)是流量調(diào)節(jié)可以是質(zhì)子流量計或浮子流量計，混氣路數(shù)可以是2路、3路、4路、5路相混合。
S-1200G管式爐采用摻鉬合金加熱絲為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和宇電控溫儀表，能進(jìn)行30段程序控溫，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用日本進(jìn)口氧化鋁多晶纖維材料，具有溫場均衡、表面溫度低、節(jié)能等優(yōu)點。
軟件控制系統(tǒng)：該爐配有通訊接口和軟件，可以直接通過電腦控制爐子的各個參數(shù)，并能從電腦上觀察到爐子上PV和SV溫度值和儀表的運(yùn)行情況，爐子的實際升溫曲線電腦會實時繪出，并能把每個時刻的溫度數(shù)據(jù)保存起來，隨時可以調(diào)出。
產(chǎn)品用途：
可在片狀或類似形狀樣品表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜，并可沉積p型、n型摻雜薄膜。沉積的薄膜具有良好的均勻性、致密性、粘附性、絕緣性。廣泛應(yīng)用于刀具、高精模具、硬質(zhì)涂層、裝飾等領(lǐng)域。
產(chǎn)品參數(shù)：

• 產(chǎn)品型號：S-1200PC
• 氣路控制：浮子流量計/質(zhì)量流量計
• 真空系統(tǒng)：旋片泵/擴(kuò)散泵/分子泵
• 可選配件：水冷機(jī)/數(shù)顯真空計
• 溫度：1200℃(可定制)
• 工作溫度：≤1100℃(可定制)
• 加熱元件：合金加熱絲
• 溫控方式：智能化30段PID微電腦可編程控制
• 溫控保護(hù)：具有超溫及斷偶報警功能
• 熱電偶：K型
• 爐膛材質(zhì)：高純氧化鋁多晶纖維
• 加熱速率：0-20℃/分
• 恒溫精度：±1℃
• 極限真空：6.0×10-5Pa
• 工作真空：7.6×10-4Pa
• 均勻性：±5℃
• 爐殼結(jié)構(gòu)：雙層殼體帶風(fēng)冷系統(tǒng)
• 額定功率：4Kw
• 供電電源：110-480V 50/60Hz
• 售后服務(wù)：12個月質(zhì)保，終身保修(易損件除外)