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制藥網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>制冷機(jī)械及設(shè)備>制冷設(shè)備>冷水機(jī)>FLT-002 半導(dǎo)體液冷器Chiller FPD制造裝置制冷機(jī)

  • 半導(dǎo)體液冷器Chiller FPD制造裝置制冷機(jī)
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參考價(jià) ¥ 158390
訂貨量 ≥1臺(tái)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
廠商性質(zhì)

生產(chǎn)廠家

型號

FLT-002

訪問次數(shù)

856

產(chǎn)地

江蘇無錫市

更新時(shí)間

2023/12/20 13:35:04

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產(chǎn)品簡介

半導(dǎo)體液冷器Chiller FPD制造裝置制冷機(jī)產(chǎn)品參數(shù)

產(chǎn)地 國產(chǎn) 產(chǎn)品大小 小型
產(chǎn)品新舊 全新 結(jié)構(gòu)類型 半封閉式,立式
結(jié)構(gòu)類型 半封閉式,立式 溫度 低溫冷水機(jī)
【無錫冠亞】半導(dǎo)體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備,?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。半導(dǎo)體液冷器Chiller FPD制造裝置制冷機(jī)

半導(dǎo)體液冷器Chiller FPD制造裝置制冷機(jī)詳細(xì)信息


無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司的半導(dǎo)體控溫解決方案

主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備,

?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。


半導(dǎo)體行業(yè)主營控溫產(chǎn)品:


半導(dǎo)體專溫控設(shè)備

射流式?低溫沖擊測試機(jī)

半導(dǎo)體專用溫控設(shè)備chiller

Chiller氣體降溫控溫系統(tǒng)

Chiller直冷型

循環(huán)風(fēng)控溫裝置

半導(dǎo)體?低溫測試設(shè)備

電?設(shè)備?溫低溫恒溫測試?yán)錈嵩?/span>

射流式高低溫沖擊測試機(jī)

快速溫變控溫卡盤

數(shù)據(jù)中心液冷解決方案




型號FLT-002FLT-003FLT-004FLT-006FLT-008FLT-010FLT-015
FLT-002WFLT-003WFLT-004WFLT-006WFLT-008WFLT-010WFLT-015W
溫度范圍5℃~40℃
控溫精度±0.1℃
流量控制  10~25L/min  5bar max15~45L/min  6bar max25~75L/min  6bar max
制冷量at10℃6kw8kw10kw15 kw20kw25kw40kw
內(nèi)循環(huán)液容積4L5L6L8L10L12L20L
膨脹罐容積10L10L15L15L20L25L35L
制冷劑R410A
載冷劑硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等  (DI溫度需要控制10℃以上)
進(jìn)出接口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG3/4ZG3/4ZG1ZG1
冷卻水口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG1ZG1ZG1ZG1 1/8
冷卻水流量at20℃1.5m3/h2m3/h2.5m3/h4m3/h4.5m3/h5.6m3/h9m3/h
電源380V3.5kW4kW5.5kW7kW9.5kW12kW16kW
溫度擴(kuò)展通過增加電加熱器,擴(kuò)展-25℃~80℃




半導(dǎo)體液冷器Chiller FPD制造裝置制冷機(jī)

半導(dǎo)體液冷器Chiller FPD制造裝置制冷機(jī)


  隨著科技的飛速發(fā)展,在這個(gè)微電子器件行業(yè)中,高精度、高穩(wěn)定性的電子設(shè)備是必要的。而為了確保這些設(shè)備的正常運(yùn)行,一個(gè)關(guān)鍵的設(shè)備——頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller,也扮演著一定的角色。

  頂層介質(zhì)刻蝕單通道頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller是一種用于冷卻電子設(shè)備的設(shè)備,它通過降低設(shè)備的溫度,保證其穩(wěn)定運(yùn)行,延長其使用壽命。在微電子器件行業(yè)中,頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller的應(yīng)用范圍非常廣泛,從大型計(jì)算機(jī)服務(wù)器到小型移動(dòng)設(shè)備,都需要用到它。

  在微電子器件行業(yè)中,頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller的作用不僅僅局限于冷卻設(shè)備。它還可以通過控制設(shè)備的溫度,提高設(shè)備的性能和穩(wěn)定性。例如,在一些高精度的電子設(shè)備中,溫度的變化可能會(huì)對設(shè)備的性能產(chǎn)生影響。而通過使用頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller,可以確保設(shè)備的溫度始終保持在適合狀態(tài),從而提高設(shè)備的性能和穩(wěn)定性。

  除此之外,頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller還可以通過提高設(shè)備的散熱效率,減少設(shè)備的故障率。在一些高溫環(huán)境下,如果電子設(shè)備無法及時(shí)散熱,就可能會(huì)導(dǎo)致設(shè)備過熱、損壞。而通過使用頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller,可以確保設(shè)備的散熱效率得到提高,從而減少設(shè)備的故障率。




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