無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司的半導體控溫解決方案
主要產(chǎn)品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備，
?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。
半導體行業(yè)主營控溫產(chǎn)品：
半導體專溫控設備
射流式?低溫沖擊測試機
半導體專用溫控設備chiller
Chiller氣體降溫控溫系統(tǒng)
Chiller直冷型
循環(huán)風控溫裝置
半導體?低溫測試設備
電?設備?溫低溫恒溫測試冷熱源
射流式高低溫沖擊測試機
快速溫變控溫卡盤
數(shù)據(jù)中心液冷解決方案
| 型號 | FLT-002 | FLT-003 | FLT-004 | FLT-006 | FLT-008 | FLT-010 | FLT-015 |
| FLT-002W | FLT-003W | FLT-004W | FLT-006W | FLT-008W | FLT-010W | FLT-015W | |
| 溫度范圍 | 5℃～40℃ | ||||||
| 控溫精度 | ±0.1℃ | ||||||
| 流量控制 | 10～25L/min 5bar max | 15～45L/min 6bar max | 25～75L/min 6bar max | ||||
| 制冷量at10℃ | 6kw | 8kw | 10kw | 15 kw | 20kw | 25kw | 40kw |
| 內循環(huán)液容積 | 4L | 5L | 6L | 8L | 10L | 12L | 20L |
| 膨脹罐容積 | 10L | 10L | 15L | 15L | 20L | 25L | 35L |
| 制冷劑 | R410A | ||||||
| 載冷劑 | 硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等 （DI溫度需要控制10℃以上） | ||||||
| 進出接口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 |
| 冷卻水口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 | ZG1 | ZG1 1/8 |
| 冷卻水流量at20℃ | 1.5m3/h | 2m3/h | 2.5m3/h | 4m3/h | 4.5m3/h | 5.6m3/h | 9m3/h |
| 電源380V | 3.5kW | 4kW | 5.5kW | 7kW | 9.5kW | 12kW | 16kW |
| 溫度擴展 | 通過增加電加熱器，擴展-25℃～80℃ | ||||||
淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller
淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller
金屬硬掩膜刻蝕單通道chiller是一種在許多領域都有廣泛應用的控溫設備。其核心作用是提供穩(wěn)定的冷卻效果，以滿足各種設備或工藝過程對溫度控制的需求。
在電子設備領域，金屬硬掩膜刻蝕單通道chiller的作用十分重要。例如，在數(shù)據(jù)中心，為了保證服務器和其他網(wǎng)絡設備的正常運行，需要保持設備溫度穩(wěn)定。金屬硬掩膜刻蝕單通道chiller可以通過準確的溫度控制，確保設備在適合狀態(tài)下運行，從而提高設備的可靠性和使用壽命。
在制造業(yè)中，金屬硬掩膜刻蝕單通道chiller也發(fā)揮著作用。例如，在塑料制品的生產(chǎn)過程中，模具的溫度需要準確控制。使用這種冷水機可以確保模具在適合的溫度范圍內，從而提高產(chǎn)品的質量和生產(chǎn)效率。
此外，金屬硬掩膜刻蝕單通道chiller在生物實驗室中也得到廣泛應用。在這些場所，實驗設備的溫度需要準確控制，以確保實驗結果的準確性和可靠性。這種冷水機能夠提供穩(wěn)定的冷卻效果，為科研工作的順利進行提供有力保障。
金屬硬掩膜刻蝕單通道chiller在許多領域都有廣泛的應用，其作用在于提供穩(wěn)定的冷卻效果，以滿足各種設備或工藝過程對溫度控制的需求。
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