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  • Nanotec研磨拋光機(jī)
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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
廠商性質(zhì)

代理商

型號(hào)

訪問(wèn)次數(shù)

1298

產(chǎn)地

上海市

更新時(shí)間

2023/9/27 13:27:29

市場(chǎng)部

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

Nanotec研磨拋光機(jī)產(chǎn)品參數(shù)

價(jià)格區(qū)間 5萬(wàn)-10萬(wàn) 產(chǎn)地類(lèi)別 進(jìn)口
應(yīng)用領(lǐng)域 化工,能源,電子,電氣,綜合
Nanotec自動(dòng)研磨拋光機(jī)用于簡(jiǎn)單的薄膜厚度測(cè)量,自動(dòng)拋光機(jī)用旋轉(zhuǎn)的鋼球?qū)悠愤M(jìn)行拋光,并用光學(xué)顯微鏡測(cè)量拋光痕跡。旋轉(zhuǎn)的鋼球?qū)悠愤M(jìn)行拋光,用光學(xué)顯微鏡測(cè)量拋光痕跡,即可測(cè)出膜厚。

Nanotec研磨拋光機(jī)詳細(xì)信息

Nanotec研磨拋光機(jī)用于簡(jiǎn)單的薄膜厚度測(cè)量

自動(dòng)拋光機(jī)用旋轉(zhuǎn)的鋼球?qū)悠愤M(jìn)行拋光,并用光學(xué)顯微鏡測(cè)量拋光痕跡。旋轉(zhuǎn)的鋼球?qū)悠愤M(jìn)行拋光,用光學(xué)顯微鏡測(cè)量拋光痕跡,即可測(cè)出膜厚。

Nanotec研磨拋光機(jī)特點(diǎn):
無(wú)需樣品準(zhǔn)備

橫斷面測(cè)量不需要樣品準(zhǔn)備,如切割、拋光或樹(shù)脂嵌入,拍攝的樣品可以按原樣測(cè)量。

可以對(duì)多層薄膜進(jìn)行評(píng)價(jià)

可以通過(guò)化學(xué)處理改變膜的成分作為色調(diào)的差異來(lái)評(píng)價(jià)各層膜的厚度
可以評(píng)估每層的薄膜厚度

Nanotec研磨拋光機(jī)應(yīng)用:

TiN、CrN、TiAlN、TiCN等,DLC、電鍍、多層膜

通過(guò)測(cè)量拋光痕跡的結(jié)果,對(duì)各層涂層的厚度進(jìn)行評(píng)價(jià),根據(jù)ISO 26423:2009

Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics) -Determination of coating thickness by crater-grinding method(凹坑研磨法測(cè)定涂層厚度)的計(jì)算方法,計(jì)算涂層厚度。為了使用本試驗(yàn)機(jī)測(cè)量涂層厚度,需要配合使用能夠測(cè)量研磨痕跡的顯微鏡。

Nanotec研磨拋光機(jī)測(cè)厚原理:

首先,加入金剛石漿料,用旋轉(zhuǎn)的鋼球?qū)悠繁砻孢M(jìn)行拋光。接下來(lái),觀察拋光痕跡,測(cè)量上圖中X與Y之間的距離。

根據(jù)測(cè)得的X、Y距離和拋光用球的半徑,用上述公式計(jì)算出膜厚。

Nanotec研磨拋光機(jī)規(guī)格
軸的轉(zhuǎn)速:100~3000轉(zhuǎn)/分
可設(shè)定的旋轉(zhuǎn)時(shí)間:1秒至60分鐘
大樣品尺寸:φ40mm

可選擇增加一個(gè)丙烯酸酯罩。
 

Nanotec研磨拋光機(jī)膜厚測(cè)量實(shí)例:

TiN涂層試樣
- 鋼球的直徑:30毫米
- 電機(jī)轉(zhuǎn)速:400轉(zhuǎn)/分鐘
- 測(cè)試時(shí)間:30秒
- 漿料類(lèi)型:金剛石漿料1.0μm。

 

 

關(guān)鍵詞:拋光機(jī) 顯微鏡

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