2015年, 德國(guó)耶拿公司推出了新品PlasmaQuant MS Elite——超高靈敏度的電感耦合等離子體質(zhì)譜儀 (ICP‐MS)。全新改進(jìn)的第二代，操作簡(jiǎn)便的碰撞反應(yīng)技術(shù) (CRI II), 為消除干擾提供了一個(gè)簡(jiǎn)單、可靠、高效和免維護(hù)的解決方案, 無(wú)論是使用氦氣或氫氣模式, 均可顯著改善那些受到質(zhì)譜干擾的元素檢出限, 更準(zhǔn)確的測(cè)定樣品中痕量元素的含量。

2015年, 德國(guó)耶拿公司推出了新品PlasmaQuant MS Elite——超高靈敏度的電感耦合等離子體質(zhì)譜儀 (ICP‐MS)。其的靈敏度是目前市場(chǎng)上所有四級(jí)桿ICP‐MS儀器中的, 甚至超越了昂貴的扇形磁質(zhì)譜儀的靈敏度。全新改進(jìn)的第二代，操作簡(jiǎn)便的碰撞反應(yīng)技術(shù) (CRI II), 為消除干擾提供了一個(gè)簡(jiǎn)單、可靠、高效和免維護(hù)的解決方案, 無(wú)論是使用氦氣或氫氣模式, 均可顯著改善那些受到質(zhì)譜干擾的元素檢出限, 更準(zhǔn)確的測(cè)定樣品中痕量元素的含量。PlasmaQuant MS/Elite ICP‐MS具有業(yè)界、操作簡(jiǎn)易的優(yōu)異性能, 代表了下一代ICP‐MS的技術(shù)創(chuàng)新和儀器性能。

的靈敏度、的背景噪音、優(yōu)異的豐度靈敏度和高速掃描, 為檢測(cè)樣品中痕量元素的含量以及進(jìn)行同位素比值測(cè)定提供了更精確和更準(zhǔn)確的結(jié)果。

使用軟件控制珀?duì)柼?(Peltier) – 冷卻的霧化室, 配以的交叉電感耦合線(xiàn)圈, 即使面對(duì)最復(fù)雜的樣品, 也可以減少氧化物的形成, 降低基體效應(yīng), 并使離子能量的擴(kuò)散降至, 為樣品的分析與測(cè)定提供了的儀器靈敏度和穩(wěn)定性, 確保了分析結(jié)果的準(zhǔn)確性。

擁有一個(gè)精確的27.12MHz 高頻和高效率的固態(tài)晶體控制射頻系統(tǒng), 以確保輸出頻率的穩(wěn)定性。快速射頻匹配網(wǎng)絡(luò), 確保了強(qiáng)勁而穩(wěn)定的離子體性能, 即使將待測(cè)樣品從水相換成有機(jī)相, 也能確保及維持等離子體高頻率的穩(wěn)定性。

采用改進(jìn)的第二代碰撞反應(yīng)技術(shù) (CRI II) – 一種創(chuàng)新而高效的干擾消除法, 干擾離子在進(jìn)入離子光學(xué)系統(tǒng)前便被有效地消除了– 操作簡(jiǎn)單、可靠, 無(wú)需任何附加的維護(hù), 即可在時(shí)間對(duì)任何復(fù)雜的樣品進(jìn)行分析與測(cè)定, 并獲得準(zhǔn)確的結(jié)果。

設(shè)計(jì)的90度離子偏轉(zhuǎn)透鏡系統(tǒng), 使離子束發(fā)生90度偏轉(zhuǎn), 有效地消除光子和中性粒子的干擾, 且以的傳輸效率將所有待測(cè)離子集中輸送到質(zhì)量分析儀, 為質(zhì)譜儀的分析提供了的信噪比和極低的檢測(cè)限。

提供了超乎想象的更低的檢出限：把離子透鏡系統(tǒng)和彎曲的四極桿預(yù)桿這兩項(xiàng)技術(shù)巧妙地結(jié)合在一起, 更有效地將背景噪音降低到了極限, 為痕量元素分析提供了超乎想象的更低檢出限。

四極桿的RF射頻驅(qū)動(dòng)器采用了精確的3.0MHz工作頻率, 以提高四極桿質(zhì)荷比的分辨性能, 并確保了離子損失降至。設(shè)計(jì)的離子采樣和聚焦系統(tǒng), 及高頻四極桿提供了的質(zhì)譜峰的分辨率和精確度, 獲得了優(yōu)異的豐度靈敏度, 提高了質(zhì)譜儀的分辨能力和長(zhǎng)期穩(wěn)定性。

具有最長(zhǎng)的檢測(cè)器壽命 (典型的壽命在 5年以上), 無(wú)需數(shù)模交叉校準(zhǔn), 就可以獲得超過(guò)九個(gè)數(shù)量級(jí)的動(dòng)態(tài)線(xiàn)性范圍。無(wú)論待測(cè)樣品是固體還是液體, 都可獲得準(zhǔn)確的同位素比值結(jié)果, 即使是在低濃度或高同位素比值的情況下也不例外。

新的 Quantum ICP‐MS 和 compassCDS 軟件支持 21CFR Part11標(biāo)準(zhǔn)，以滿(mǎn)足相關(guān)醫(yī)藥行業(yè)客戶(hù)的需求。

雙向觸發(fā)器可滿(mǎn)足用戶(hù)對(duì)于激光燒蝕或色譜設(shè)備聯(lián)用的需求。