二氧化硅分析儀—應用范圍
該設備用于高純度純水或鍋爐給水中二氧化硅（SiO2）濃度的高精 度測量。采用“鉬藍”測量方法。根據(jù)所需的測量范圍提供三種版本。 以下范圍可供選擇，濃度很低，濃度較低，濃度較高。微處理器控制器和分析儀都安裝在獨立的機柜中，便于操作和維護。

二氧化硅分析儀—產(chǎn)品特點
◎ 測量濃度非常低的 0-10ppb。
◎ XAT-200 測量濃度非常低，準確度（重復性）在 +/-  1％FS 以內(nèi)。
◎ 不產(chǎn)生腐蝕性氣體，簡單的試劑供應技術(shù)。
◎ 使用抗壞血酸作為還原劑，不使用具有刺激性氣味的磺酸。液體系統(tǒng)是密封型的。
◎ 半導體光源的使用壽命非常長。在儀器的使用壽命期間，通常不需要更換。
◎ 從超純水到城市用水的廣泛測量范圍。
◎ 有三種型號可供選擇。濃度很低，濃度較低，濃度較高。對于每個模型，可以為每個流路兩個范圍。自動量程系統(tǒng)根據(jù)測量值自動切換量程，可連續(xù)測量。
◎ 測量周期設置范圍廣泛。自由設置在15 分鐘和999 分鐘之間。
◎ *多可以自動切換四個樣品流路。
◎ 連接到外部電腦。
◎ 分析結(jié)果可以作為 RS-232C 格式（選件）的串行信號傳輸。

二氧化硅分析儀—技術(shù)規(guī)格
顯示：觸摸屏顯示。
測量方法：間歇吸光光度法
測量周期：自由設定 15 分鐘 ~999 分鐘，可連續(xù)測量。測量流程路徑：1-4（待定）自動校準：零點... 自動歸零重復性：+/- 1％ FS（響應時間為 6 分鐘）
測量誤差：讀數(shù)的 ±1% 樣品條件：溫度≤ 50℃ 壓 力 ：0.01-0.25Mpa 流量：0.2-2.0L/min
樣品過濾器：陶瓷濾芯過濾
數(shù)據(jù)記錄：內(nèi)置小型記憶卡，保存 1W 條歷史數(shù)據(jù)。樣品泵： 隔膜泵（材質(zhì) SUS304），帶流量調(diào)節(jié)器。濕度：10-40oC，*大值 85％ RH（無冷凝）
結(jié)構(gòu)：室內(nèi)安裝
輸出：與輸入隔離，4-20mA  DC（*大負載  600o），保持輸出， 6 個電路 / 路徑
報警：電源切斷信號，維護信號下，異常濃度信號，其他常見報警信號（色度計異常，樣品截止，異常校準曲線）常見報警信號的內(nèi)容顯示在 LCD 上，    并由打印機打?。蛇x）。所有的報警信號都被傳送到一組公共端子。無電壓接點輸出（20VA，110V AC 或更低） 其他觸點輸出：量程信號（高量程閉合觸點）無電壓接點輸出（20VA， 110V AC 或更低）
接口：RS-232C（可選）
電源要求：220V AC +/- 10％，50 / 60Hz
儀器空氣：壓力 ... 0.4-0.7MPa（正常使用 0.5NL /  min，吹掃用量 4NL / min。）
尺寸：470（W）x 600（D）x 145（H)mm 重量：約 120kg。
可打印機（可選）：58 毫米熱敏打印機防凍加熱器（可選）：可以集成
采樣：為了減少測量延遲時間，樣本在每個流的樣本過濾器（SF） 中連續(xù)流動。在采樣時，只有被測流體的閥門打開進行過濾。過濾后的樣品作為彩色顯影反應的樣品轉(zhuǎn)移到反應池中。
反應：將鉬酸銨添加到樣品中以產(chǎn)生硅鉬酸。然后將酒石酸加入到樣品中以掩蓋磷酸，并且使用抗壞血酸將硅鉬酸還原成鉬藍。將該溶液轉(zhuǎn)移到比色計中以測量其波長為 860nm 的吸光度。使用先前制備的校準曲線自動計算二氧化硅濃度。

二氧化硅分析儀—測量范圍

二氧化硅分析儀—樣本