四方光電(武漢)儀器有限公司為四方光電股份有限公司的全資子公司,簡稱:四方儀器,前身為成立于2010年的湖北銳意自控系統(tǒng)有限公司,是一家專業(yè)提供氣體成分及流量測量方案的高新技術企業(yè),服務于工業(yè)過程監(jiān)測、環(huán)境監(jiān)測、汽車/發(fā)動機排放檢測、科學研究氣體分析等領域。
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可調(diào)諧半導體激光氨逃逸氣體分析儀產(chǎn)品參數(shù)
| 產(chǎn)地 | 國產(chǎn) | 產(chǎn)品新舊 | 全新 |
| 電源電壓 | 220V AC,50Hz,800W | 結(jié)構型式 | 臺式 |
| 顯示方式 | 數(shù)顯式 | 種類 | 其他 |
| 測量組分 | 樣氣中的濕度和氧濃度 | 測量原理 | 陶瓷氧化鋯原理 |
| 測量范圍 | H2O:(0~40)%VOL?O2:(0.1~25)%VOL | 線性誤差 | H2O:±2%F.S.?O2:±2%F.S. |
可調(diào)諧半導體激光氨逃逸氣體分析儀詳細信息
可調(diào)諧半導體激光氨逃逸氣體分析儀
采用可調(diào)諧半導體激光吸收光譜技術(TDLAS),適用于在線監(jiān)測脫硝工藝出口氨氣濃度。系統(tǒng)采用高溫伴熱抽取技術,有效降低氣體冷凝損耗,可實時準確地反應逃逸氨的變化,為環(huán)保監(jiān)測提供可靠數(shù)據(jù)支持。
產(chǎn)品特點:
采用TDLAS技術,被測氣體不受背景氣體交叉干擾
超低量程測量,采用多次反射氣室,檢出下限低
氣體流路全程高溫伴熱,預防銨鹽結(jié)晶,并采用低吸附材料和處理工藝,有效避免NH3冷凝損耗
抽取式測量,不受煙道內(nèi)粉塵、溫度、壓力波動的影響
不受現(xiàn)場安裝條件限制,應用廣泛
產(chǎn)品參數(shù):
測量組分 NH3
測量原理 TDLAS
測量范圍 0~10ppm,0~20ppm
精度 ±2%F.S.
重復性 ±1%F.S.
分辨率 0.1ppm
響應時間 T90≤15S
工作參數(shù)
環(huán)境溫度 (-20~ +50)℃
工作電源 220V AC,50Hz,800W
吹掃氣源 (0.4~0.8)MPa壓縮空氣
接口信號
通訊 RS485、RS232
輸出模式 4路4-20mA輸出
8路繼電器輸出
*具體參數(shù)請以規(guī)格書為準,如需獲取更多技術信息
可調(diào)諧半導體激光氨逃逸氣體分析儀 獲中國環(huán)境保護產(chǎn)品認證(CCEP)

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