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制藥網>產品展廳>儀器儀表>物性測試儀器>高低溫試驗箱>SUNDI -125 液體循環(huán)加熱冷卻設備有哪些反應條件

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參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
廠商性質

生產廠家

型號

SUNDI -125

訪問次數

404

產地

江蘇無錫市

更新時間

2026/8/17 15:51:17

劉經理

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產品簡介

液體循環(huán)加熱冷卻設備有哪些反應條件產品參數

產地 國產 產品新舊 全新
【無錫冠亞】液體循環(huán)加熱冷卻設備有哪些反應條件,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

液體循環(huán)加熱冷卻設備有哪些反應條件詳細信息




型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統(tǒng)

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協(xié)議

MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 進口溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發(fā)器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環(huán)系統(tǒng)

整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規(guī)重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/









液體循環(huán)加熱冷卻設備有哪些反應條件

液體循環(huán)加熱冷卻設備有哪些反應條件

  液體循環(huán)加熱冷卻設備為需冷卻或加熱設備如反應釜、旋轉蒸發(fā)儀等提供高低溫溫度控制,通過外循環(huán)的方式為反應器提供熱源或冷源,達到反應所需條件,有多種款式可供選擇。

  1、液體循環(huán)加熱冷卻設備可以一臺主機同時控制多臺不同反應釜,可以在高溫溫時沒有導熱介質蒸發(fā)出來,采用全密閉管道設計,降低導熱液需求量的同時,提高系統(tǒng)的熱量利用率,達到快速升降溫度。

  2、在選擇冷熱循環(huán)一體機儀器型號的時候可以采用加熱與制冷分別獨立控制的操作方式,也可以集成在同一個控制系統(tǒng)中,并可根據客戶需求實現(xiàn)遠程通訊及控制功能。

  3、要注意反應釜內部的物料需要從多高的溫度,要用多長時間加熱,根據所需要這幾個不同的需求,來配置更加合適的設備。因為這樣既能夠滿足對工藝的要求,又能夠盡量去降低不必要的損耗,選用合適的反應服,溫控系統(tǒng)是非常重要的。

  4、都是在進行間接性操作,從而根據所需要的生產工藝,把反應釜所需要的上限設定,在低于一定的溫度之后,這個機器就會自動開始工作。在高于設定的結果時,就會自動斷開電源,不再進行。這樣的形式進行反復工作,保證釜內的工作時間和持續(xù)的性能。而它持續(xù)的時間也要根據生產工藝來制定。

這樣一個*的設計能讓液體循環(huán)加熱冷卻設備快速的達到產品工藝所需要的一個度數要求,采用一些智能的控制技術就可以加熱恒溫,也可以進行降溫,控制準確度高,帶來的損耗也是小的。


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  無錫冠亞的各種設備的原理以及參數僅供參考,不同客戶實際拿到的設備是按照自己的工況需求與參數設計生產出來的,設備配置、價格以及型號存在一定的差異,具體以銷售聯(lián)系溝通為準。









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