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  • 美國 KRI 霍爾離子源 eH 400
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2021/10/6 20:28:00

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上海伯東代理美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 400 低成本設(shè)計提供高離子電流, 霍爾離子源 eH 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng), 可以控制較低的離子能量, 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.尺寸: 直徑= 3.7 高= 3放電電壓 / 電流: 50-300eV / 5a操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, ......

美國 KRI 霍爾離子源 eH 400詳細(xì)信息

美國 KRI 霍爾離子源 eH 400 產(chǎn)品特性:

伯東 KRI 霍爾離子源 eH 400 特性:

1.可拆卸陽極組件 - 易于維護(hù); 維護(hù)時, 限度地減少停機(jī)時間; 即插即用備用陽極

2.寬波束高放電電流 - 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率

3.多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng)

4.高效的等離子轉(zhuǎn)換和穩(wěn)定的功率控制

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