EDI反滲透純水設(shè)備

純水設(shè)備水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)：
  我公司半導(dǎo)體行業(yè)用超純水出水水質(zhì)*符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn)）、我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

純水設(shè)備的工藝流程：

1、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→產(chǎn)水(≥18MΩ.CM)

2、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級(jí)反滲透(正電荷反滲透膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥17MΩ.CM)

3、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥15MΩ.CM)

4、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→混床→紫外線殺菌器→精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥15MΩ.CM) 

EDI反滲透純水設(shè)備

純水設(shè)備對(duì)水質(zhì)的要求：

  新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高，這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。

電子工業(yè)超純水設(shè)備應(yīng)用范圍：

☆電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗

☆電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

☆顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、配料用純水

☆黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水

☆液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液

☆晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制

☆ 集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片

☆半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路

☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

☆高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)

☆半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗

☆超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料

☆實(shí)驗(yàn)室和中試車間

☆汽車、家電表面拋光處理

☆光電產(chǎn)品、其他高科技精微產(chǎn)品

EDI反滲透純水設(shè)備

混床工作原理：

   在同一個(gè)交換器中，將陰、陽(yáng)離子交換樹(shù)脂按照一定的體積比例進(jìn)行填裝，在均勻混合狀態(tài)下，進(jìn)行陰、陽(yáng)離子交換，從而除去水中的鹽分，稱為混合床除鹽處理。混合床的陰、陽(yáng)離子交換樹(shù)脂在交換過(guò)程中，由于是處于均勻混合狀態(tài)，交錯(cuò)排列，互相接觸，可以看作是由許許多多的陰、陽(yáng)離子交換樹(shù)脂而組成的多級(jí)式復(fù)床，可相當(dāng)于1000～2000級(jí)。因?yàn)槭蔷鶆蚧旌希?，陰、?yáng)離子的交換反應(yīng)幾乎是同時(shí)進(jìn)行的，所產(chǎn)生的H+和OH-隨即合成H2O，交換反應(yīng)進(jìn)行得很，出水水質(zhì)高。