—、凈化工程半導體車間實景圖

二、凈化原理

在凈化工程中，含有雜質(zhì)的液化氣體通過第一吸收裝置以去除其液相中的雜質(zhì)，從而產(chǎn)生初次凈化流體;使這初次凈化流體通過蒸發(fā)裝置以去除其中的雜質(zhì)，從而產(chǎn)生二次凈化氣體;和使二次凈化氣體通過第二吸收裝置以去除其汽相中的雜質(zhì)，從而達到凈化效果。

三、技術要求及功能特點

技術要求:

對生產(chǎn)環(huán)境清潔度要求*;

選擇不易產(chǎn)生靜電吸附的材質(zhì)為主;恒溫恒濕的系統(tǒng)要求使用;

所用的原材料需要符合工藝要求;

功能特點:

清潔度∶半導體工藝對操作室清潔度要求*，通常使用風機抽取工藝過程中揮發(fā)的各類廢氣，因此半導體行業(yè)廢氣排放具有排氣星大、排放濃度小的特點。

特殊性:所有人或事情進出半導體，必須穿配套防塵服，人或事物都要經(jīng)過風淋室的吹淋已將表面的灰塵清洗掉;防靜電:在材質(zhì)選擇方面，應該選擇不易產(chǎn)生靜電吸附的材質(zhì);

嚴謹性∶所有經(jīng)凈化設備的空氣流動方向均由上往下為主，因此，半導體室內(nèi)空間設計或機臺擺放應避免突兀，使塵埃細菌等在潔凈無塵車間內(nèi)回旋停滯的機會與時間減至低程度。

四、應用場景

半導體車間凈化裝修現(xiàn)在已經(jīng)廣泛運用于制藥工業(yè)、細菌學、生物學、潔凈實驗室等行業(yè)中，隨著半導體凈化裝修日益地朝著高集成度發(fā)展,這就要求各元件尺寸愈來愈微細，而硅片的面積向大型化方向發(fā)展，在一定程度上促進的我國生物工程的發(fā)展。