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AR-P617 電子束光刻膠

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公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
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廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2021/7/23 20:36:58
訪問次數(shù)537

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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司，經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀，可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù)，研發(fā)設(shè)計(jì)組裝：紫外臭氧清洗機(jī)（UV清洗機(jī)），準(zhǔn)分子清洗機(jī)，等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備，擁有自主品牌及注冊商標(biāo)。同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠信的企業(yè)文化，為廣大中國及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納，光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所，科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。半導(dǎo)體/微納，光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有：德國ParcanNano（Nano analytik）針尖光刻機(jī)，電子束光刻機(jī), 激光直寫光刻機(jī)，紫外光刻機(jī)，微納3D打印機(jī)，德國Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積，英國HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)，微波離子沉積機(jī)MPCVD，芬蘭Picosun原子層沉積機(jī)，電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀，美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發(fā)射率檢測儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈，美國Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管，德國Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。生命科學(xué)/生物醫(yī)療產(chǎn)品主要有：PCR儀，核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測儀，電子顯微鏡，紫外設(shè)備，光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀，生物芯片，試劑，實(shí)驗(yàn)耗材等。并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價(jià)比的優(yōu)勢為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù)，為高等院校, 研究所，科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。

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電子顯微鏡

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德國Allresist 正電子束光刻膠 AR-P 610系列用于納米光刻的 AR - P617電子束電阻共聚物抗蝕劑系列用于生產(chǎn)集成電路和掩模

AR-P617 電子束光刻膠產(chǎn)品信息

德國Allresist 正電子束光刻膠 AR-P 610系列

用于納米光刻的 AR - P617電子束電阻

共聚物抗蝕劑系列用于生產(chǎn)集成電路和掩模

描述

-電子束，深紫外光(248nm)

-分辨率，高對比度

-對玻璃、硅和金屬有很強(qiáng)的附著力

-比PMMA敏感3-4倍

-敏感性可以通過軟烤調(diào)整

-用于平面化和多層工藝

-溫度穩(wěn)定，可達(dá)240℃

-以甲基丙烯酸甲酯為基礎(chǔ)的共聚物

甲基丙烯酸，安全溶劑1-甲氧基-2-丙醇

屬性 I

屬性 II

工藝條件

該圖顯示了AR-P 610系列電阻的典型工藝步驟。所有規(guī)范都是指導(dǎo)原則必須適應(yīng)自身具體情況的價(jià)值觀。For 進(jìn)一步信息 processing, ? “Detailed 電子束電阻的處理說明"。For 建議廢水處理和 general 安全 instructions, ? ”General 產(chǎn)品信息 Allresist 電子束 resists”.

Processing instructions

抗蝕劑的敏感性隨軟烤溫度的升高而增加，這是因?yàn)榭刮g劑的形成更加強(qiáng)烈下的甲基丙烯酸酐的分離水 (? 圖劑量與 softbake temperature).AR-P 617,因此，在200℃回火比在180℃回火大約敏感20%。劑量可以是對兩層AR-P 617系統(tǒng)進(jìn)行相應(yīng)的調(diào)整，對于兩層系統(tǒng)具有重要意義。在這種情況下,首先，底層在200℃下干燥，然后在180℃與上層膜一起回火。由于差異化的過程，較低的層次被開發(fā)人員更快地攻擊，并明顯削弱結(jié)構(gòu)形成(起飛)。這些起飛結(jié)構(gòu)也可以由雙層系統(tǒng)PMMA/共聚物。首先在190℃下對ar - p617進(jìn)行涂層回火處理，然后對其進(jìn)行PMMA抗AR-P 679.03紡絲涂膜，150℃烘干。曝光后，兩層都是一步顯影，如AR 600-56處理瓶塞AR 600-60并沖洗。

剝離結(jié)構(gòu)為ar - p617兩層側(cè)切結(jié)構(gòu)，采用PMMA/共聚物

經(jīng)過AR 600-50的開發(fā) 開發(fā)后的PMMA/共聚物雙層體系

底部:AR-P 617.06, 400納米厚，200℃回火底部:AR-P 617.06, 400納米厚，在190℃回火

頂部:AR-P 617.06, 500納米厚，180℃回火頂部:AR-P 679.06, 180納米厚，150℃回火

由甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸組成的共聚物與純PMMA產(chǎn)品相比，在熱載荷作用下能形成6環(huán)。在這種情況下，兩個(gè)甲基丙烯酸基團(tuán)必須相鄰排列在聚合物鏈上(見大的結(jié)構(gòu)式左)，這在統(tǒng)計(jì)學(xué)上發(fā)生足夠高混合比例為2:1時(shí)的頻率(見右上方分子式)。在這個(gè)溫度下反應(yīng)是可能的，因?yàn)樵诜磻?yīng)過程中產(chǎn)生的水是非常好的離開組織。

The 6-ring 形成分裂比脂肪鏈更容易在與電子輻照 remainder 導(dǎo)致 copolymer. 的靈敏度越高一旦調(diào)整，靈敏度將保持不變。逆開環(huán)反應(yīng)是不可能的。

由于其優(yōu)異的涂層性能，使其成為可能存在的水平出拓?fù)?wafer 發(fā)展之前在這個(gè)例子中，200納米高氧化層結(jié)構(gòu)采用AR-P 617.08涂層的薄膜厚度為780納米。曝光后(20kv)和開發(fā)(AR 600- 50,2分鐘)，晶圓片結(jié)構(gòu)被*平面的抗蝕劑線覆蓋。