德國Raith Voyager新一代電子束光刻系統(tǒng)

高速且價格合理的電子束光刻機實現(xiàn)精確的曝光效果

對于工業(yè)界和學術界所有關注速度和高分辨的電子束曝光應用，我們推薦您選擇VOYAGERTM這款專業(yè)電子束光刻系統(tǒng)。

Raith非常重視這款具有吸引力的在使用壽命期間具有高性價比、新開發(fā)的、創(chuàng)新的eWRITE體系結(jié)構(gòu)。

系統(tǒng)的硬件和軟件被一致設計為自動曝光操作，*的高性能圖形發(fā)生器和電子光學系統(tǒng)優(yōu)化設計并協(xié)同一致。

系統(tǒng)可實現(xiàn)8英寸樣品的高速曝光。系統(tǒng)的穩(wěn)定性是非常關鍵的指標，可保證大面積均勻曝光。該系統(tǒng)外部采用環(huán)境屏蔽罩，即使在稍差的實驗室環(huán)境下，仍然能確保系統(tǒng)具有非常好的熱穩(wěn)定性，提高系統(tǒng)對外界環(huán)境的容忍度。

超高分辨率曝光系統(tǒng)

從最初設計到樣品制備完成，實現(xiàn)高速樣品加工，提高產(chǎn)量
智能設計：設備占地面積小，且集成環(huán)境屏蔽罩
創(chuàng)新的、未來安全型系統(tǒng)架構(gòu)
專業(yè)的電子束曝光系統(tǒng)，可實現(xiàn)每小時1cm2的高速曝光，高性價比

eWrite技術

Raith新推出的eWrite技術結(jié)合了專業(yè)電子束光刻的光學系統(tǒng)和創(chuàng)新的圖形發(fā)生器設計，該技術適用于研發(fā)及批量生產(chǎn)的所有工作。

VOYAGER 應用

.HSQ膠上制作亞7nm線條

.SU8膠上制作 1x1 cm² 菲涅爾透鏡，曝光時間為53分鐘，圖為菲涅爾透鏡中心區(qū)域

.PMMA雙層膠上制作150nm T型柵結(jié)構(gòu)

.ZEP520膠上制作 1x1 cm²光柵結(jié)構(gòu)，曝光時間小于2小時

高速度模式（40nA束電流下曝光160um大結(jié)構(gòu)）和高分辨模式（0.4nA束電流下曝光10nm細小結(jié)構(gòu)）自動切換

· ZEP520膠上制作光子晶體波導結(jié)構(gòu)

VOYAGER 產(chǎn)品詳情

主要應用:

。高速直寫
。衍射光學元件
。防偽元件
。批量加工化合物半導體器件

樣品臺:

。6“ 移動范圍
。Z方向移動范圍大

電子槍技術:

。eWrite
。電子
。50 kV

*直寫模式:

。traxx 長線條無寫場拼接曝光模式
。periodixx周期結(jié)構(gòu)無寫場拼接曝光模式