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MLA150德國Heidelberg激光直寫光刻機

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2021/7/13 20:17:35
  • 訪問次數(shù)938
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司,經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀,可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù),研發(fā)設(shè)計組裝:紫外臭氧清洗機(UV清洗機),準(zhǔn)分子清洗機,等離子清洗機/去膠機等科研以及生產(chǎn)設(shè)備,擁有自主品牌及注冊商標(biāo)。 同時我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價比產(chǎn)品, 始終堅持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠信的企業(yè)文化,為廣大中國及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機構(gòu)等。 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機,電子束光刻機, 激光直寫光刻機,紫外光刻機,微納3D打印機,德國Sentech刻蝕機/鍍膜機及原子沉積,英國HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機,微波離子沉積機MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機,電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發(fā)射率檢測儀, 日本SEN UV清洗機/UV清洗燈,美國Jelight紫外清洗機/紫外燈管,德國Diener等離子清洗機等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學(xué)/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測儀,電子顯微鏡,紫外設(shè)備,光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實驗耗材等。 并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價比的優(yōu)勢為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。
電子顯微鏡
德國Heidelberg 激光直寫光刻機MLA150,高精密激光直寫繪圖機,直接曝光圖形的靈活性能,可提升在Life Science, MEMS, Micro-Optics, Semiconductor, Sensors, Actuators, MOEMS, Material Research, Nano-Tubes, Graphene及任何其他需要微結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域的工作效率。
MLA150德國Heidelberg激光直寫光刻機 產(chǎn)品信息

德國Heidelberg 激光直寫光刻機MLA150

德國高精密激光直寫繪圖機


非接觸式曝光


可支持高效數(shù)位光刻與灰度光刻

MLA150專為便于操作而設(shè)計,涵蓋過去30年中開發(fā)的激光直寫設(shè)備的所有技術(shù)知識。它提供了單層和多層應(yīng)用所需的所有功能,由于MLA150曝光是非接觸式的,因此它可以克服無光罩曝光技術(shù)的局限性。

與其他圖形產(chǎn)生器不同的地方不僅在于MLA150易于使用,還有極快的曝光速度。使用小至1微米的結(jié)構(gòu)曝光100x100mm²的區(qū)域僅需要不到10分鐘。透過使用三個不同分辨率的集成攝像頭,可在2分鐘內(nèi)完成多層應(yīng)用中的套刻對位,套刻對準(zhǔn)精度優(yōu)于500nm。

MLA150無光罩激光直寫設(shè)備直接曝光圖形的靈活性能,可提升在Life Science, MEMS, Micro-Optics, Semiconductor, Sensors, Actuators, MOEMS, Material Research, Nano-Tubes, Graphene及任何其他需要微結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域的工作效率。

功能

基板到9 x 9”

標(biāo)準(zhǔn)版:1µm結(jié)構(gòu)

高分辨率版本:結(jié)構(gòu)可達(dá)600納米

²暴露面積150 x 150毫米(200 x 200平方毫米可選)

非接觸式曝光

光源為405 nm和375 nm

基于SLM光引擎

多種數(shù)據(jù)輸入格式

校準(zhǔn)精度為500納米

背面對齊

實時自動對焦

抵制數(shù)據(jù)庫

自動標(biāo)記和序列化


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