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  • K850WM大腔室臨界點干燥儀
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型號

K850WM

訪問次數

576

產地

更新時間

2021/7/11 15:14:42

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K850WM大腔室臨界點干燥儀

K850WM大腔室臨界點干燥儀詳細信息

K850WM大腔室臨界點干燥儀

臨界點干燥(有時稱為超臨界干燥,簡稱CPD)是在進入掃描電鏡(SEM)觀察之前對含水生物組織或含液體材料樣品進行脫水干燥的一種傳統方法。其基本原理是:在密閉容器中,隨著溫度的升高,蒸發(fā)速率加快,氣相密度增加,液相密度下降;當溫度增加到某一特定值時,氣、液二相密度相等,界面消失,表面張力為零,此時的溫度及壓力即稱為臨界點。零表面應力這種條件可用于干燥含液體樣品,避免表面應力對試樣產生的損壞、畸變及虛假結構信息。

我們經常需要對生物樣品進行脫水,然而,水的臨界點為+374℃及3212 psi,很不方便達到這個臨界點且容易損壞試樣。最通常臨界點干燥介質為CO2,它的臨界點在+31℃及1072 psi。因CO2不易與水互溶,通常樣品得先經乙醇梯度脫水,再用與這兩種物質(乙醇、CO2)都能互溶的“媒介液”醋酸戊脂或丙酮置換出樣品中的乙醇。這樣在把干燥介質(液體CO2)從液體轉為氣體時,即可實現在無表面應力的臨界點狀態(tài)下干燥樣品。前期置換處理及最終臨界點干燥過程如下:

含水濕樣品→梯度脫水→乙醇濕樣品→置換成丙酮濕樣品→置換成液態(tài)CO2濕樣品→臨界點干燥→干樣品

K850WM是一款緊湊的大腔室臺式儀器,設計用于臨界點干燥一個整體的6”/150毫米晶圓。一個方便的晶圓夾持器允許快速轉移樣品,并確保不會發(fā)生提前被蒸發(fā)干燥。

儀器特點:

•  大直徑腔室,已被優(yōu)化用于晶圓/MEMS干燥

•  具有頂部裝載和底部放出的垂直腔室,在臨界點干燥時確保試樣浸沒在液體中

•  熱電加熱,控溫精確;數字顯示設置溫度和實時溫度

•  精細針閥可精確控制腔室泄壓速度

•  帶有過溫自停保護功能的溫度監(jiān)控

•  帶有超壓安全釋放功能的壓力監(jiān)測

•  可選二氧化碳鋼瓶加熱器及其溫度控制器

K850WM采用冷卻循環(huán)水裝置器實現水冷。這種與電加熱的組合可以控制冷卻和加熱的溫度。這樣可以確保準確獲得臨界點,避免壓力和溫度過高,無需在加熱循環(huán)期間依靠減壓閥來控制壓力。

晶圓樣品被放置在聚四氟乙烯托盤中。將托盤(包括晶圓片)浸入丙酮中,以除去試樣中的所有水分。置換脫水后,晶圓片和夾持器通過晶圓轉移裝置轉移到預冷的工作腔室中。在腔室中完成臨界點干燥之后,在進一步加工之前,可使用轉移裝置將晶圓片從腔室中取出。

我們的CPD產品系列也包括具有較大的水平腔室E3100臨界點干燥儀,以及具有垂直腔室的K850臨界點干燥儀。此外,我們還提供兩款冷凍干燥儀:采用帕爾帖半導體制冷、機械泵抽真空的K750X,以及采用液氮制冷、渦輪分子泵抽真空的K775X。這些干燥儀產品科研用途。

 

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