技術(shù)規(guī)格：

本系統(tǒng)由進(jìn)樣室、硫化/硒化室、兩個(gè)濺射室（3靶位+4靶位）、濺射控制系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、泵抽系統(tǒng)、樣品傳輸控制系統(tǒng)、氣氛控制系統(tǒng)、水循環(huán)制冷系統(tǒng)、完成樣品制備過(guò)程電控系統(tǒng)及電腦/觸摸屏程序控制系統(tǒng)等組成；

系統(tǒng)配置可在真空環(huán)境條件下移動(dòng)樣品的機(jī)械手臂，實(shí)現(xiàn)樣品在腔體之間的移動(dòng),樣品在腔室之間傳遞動(dòng)作完成后15分鐘內(nèi)相關(guān)腔室真空度恢復(fù)到樣品傳遞之前的水平；

兩濺射室可分別實(shí)現(xiàn)3靶位和4靶位的靶材共濺射，相互之間電源等系統(tǒng)無(wú)相互干擾，各靶材單獨(dú)濺射不受其他靶材的影響，且不污染其它靶材；

系統(tǒng)具有*的自動(dòng)保護(hù)功能,其中硒化/硫化爐的抽氣入口具有防蒸汽侵蝕保護(hù)措施；

各室結(jié)構(gòu)材料均采用上等不銹鋼材料，氬弧焊接和表面拋光處理。