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制藥網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>原料藥機械及設(shè)備>混合設(shè)備>分散機>XMD2000 硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機

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參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
廠商性質(zhì)

生產(chǎn)廠家

型號

XMD2000

訪問次數(shù)

2459

產(chǎn)地

江蘇蘇州市

更新時間

2026/9/24 9:31:46

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產(chǎn)品簡介

硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機產(chǎn)品參數(shù)

變速方式 減速器變速,變頻變速,變速帶變速,電磁變速 產(chǎn)地 進口
產(chǎn)品大小 大型 產(chǎn)品新舊 全新
分散機類型 實驗室分散機,調(diào)速分散機,高速分散機,剪切分散機,乳化分散機,升降分散機,防爆分散機 分散輪直徑 55mm
分散盤型式 平盤鋸齒式,三義槳式,碟式 結(jié)構(gòu)類型 立式
每次處理量 1000L 升降形式 液壓,機械
速度范圍 400rpm以下,400-1200rpm,200rpm以上 速度類別 有級變速(多速),單速,雙速,無級變速
物料類型 液-液,干粉,膏體,固-液,固體顆粒 自動化程度 全自動
展開更多
硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機詳細信息

硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機

硫酸頭孢喹肟混懸液研磨分散機,硫酸頭孢喹咪混懸液研磨分散機 ,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到*的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

1、因目前實驗設(shè)備轉(zhuǎn)、定子間隙不可調(diào),是否適用于制備以以上附加劑的混懸劑

2、該機粉碎以上附加劑,會不會造成定轉(zhuǎn)子接觸部分磨損

3、該機能否實現(xiàn)細碎至通過顆粒直徑****小于50um。其中D95

硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機,硫酸頭孢喹肟混懸液研磨分散機,硫酸頭孢喹咪混懸液研磨分散機

*終產(chǎn)品: 混懸液

用途: 混懸液

工藝要求: 與藥物接觸部分為

原材料: 硫酸頭孢喹肟

液體(%): 三乙酸甘油酯、氫化蓖麻油、丙二醇

固體(%): 硫酸頭孢喹肟

密度(kg/m溫度(℃): 35

 將頭孢喹肟原料藥加入至乳化罐,加適量三乙酸甘油酯,經(jīng)研磨分散機進行分散均勻,加入丙二醇,混合均勻。

研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

以下為型號表供參考:

型號

標(biāo)準流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標(biāo)準線速度

m/s

馬達功率

KW

進口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

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