微納米氧化鋁漿料分散機(jī)

氧化鋁漿料分散機(jī),氧化鋁水性漿料高速分散機(jī),氧化鋁水性漿料納米分散機(jī),氧化鋁水性漿料超細(xì)分散機(jī),氧化鋁漿料分散機(jī)

一、氧化鋁的廣泛應(yīng)用

氧化鋁具有硬度高、化學(xué)穩(wěn)定性好、導(dǎo)熱絕緣性能好等優(yōu)點(diǎn)，已被廣泛應(yīng)用在陶瓷、無機(jī)膜、研磨拋光材料等領(lǐng)域。用作分析試劑、導(dǎo)熱相變材料、CCL、環(huán)氧塑封料、環(huán)氧澆注料填充劑、導(dǎo)熱鋁基板、導(dǎo)熱硅膠墊、導(dǎo)熱灌封膠、導(dǎo)熱硅脂、導(dǎo)熱膠泥、導(dǎo)熱雙面膠有機(jī)溶劑的脫水、吸附劑、催化劑、冶煉鋁的原料、耐火材料。

二、氧化鋁的分散問題

近年來，已超細(xì)氧化***體研制功能陶瓷材料和新型功能復(fù)合材料受到人們的廣泛關(guān)注。但超細(xì)氧化***體比表面積大，表面活性高，單個(gè)超細(xì)顆粒往往處于不穩(wěn)定狀態(tài)，顆粒之間因?yàn)橄嗷ノ鴪F(tuán)聚，易于失去超細(xì)粉體*的性能，因此超細(xì)氧化***體的分散，是超細(xì)氧化***體走向?qū)嵱没年P(guān)鍵。

在水溶液中，氧化鋁漿料中的亞微米機(jī)微粒由于受靜電引力等作用發(fā)生團(tuán)聚，出現(xiàn)絮凝，分層等現(xiàn)象，破壞漿料的分散穩(wěn)定性。為此漿料的分散穩(wěn)定性成為人們研究的重點(diǎn)。影響穩(wěn)定性的因素有很多，如：分散劑種類及用量、分散設(shè)備的選擇、粉體的粒度及表面性質(zhì)、PH值、溫度等。

當(dāng)物料工藝確定后，影響分散穩(wěn)定性的因素就是漿料中粒子的半徑，半徑越小，沉降越慢、穩(wěn)定性越高。這種情況下要提高分散穩(wěn)定性就必須選用高品質(zhì)的分散設(shè)備，來獲得更好的物料粒徑，提高分散的均勻性，推薦GMD2000系列研磨分散機(jī)，*的結(jié)構(gòu)，膠體磨+分散機(jī)一體化設(shè)備，14000rpm高轉(zhuǎn)速，效果好、效率高。

三、微納米氧化鋁漿料分散設(shè)備

結(jié)合多家化工企業(yè)案例，我司推薦GMD2000系列研磨式高速分散機(jī)進(jìn)行氧化鋁分散，一般可獲得超細(xì)的物料粒徑，一般為1-2μm左右。當(dāng)然還要看具體的物料工藝，以及原始狀態(tài)。

GMD2000是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的設(shè)備，轉(zhuǎn)速高達(dá)18000rpm，*的剪切力。膠體磨磨頭配合分散機(jī)分散盤，先研磨后分散。這種特殊的設(shè)計(jì)的優(yōu)勢在于，粒子細(xì)化之后容易出現(xiàn)絮凝現(xiàn)象，所以此時(shí)分散十分重要，而砂磨機(jī)難以分散。

GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN（蘇州）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三層變更為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種分散頭供客戶選擇）。

四、實(shí)驗(yàn)室氧化鋁漿料分散設(shè)備

上面介紹的是中試和工業(yè)級(jí)使用的分散機(jī)，若需要在實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行小試，可以使用SGN的SA25型手持式高剪切分散機(jī)，該款產(chǎn)品可以達(dá)到28000rpm的高轉(zhuǎn)速，團(tuán)聚顆粒經(jīng)過工作頭下方吸料進(jìn)入剪切區(qū)域，被瞬間撕裂，同時(shí)在顆粒表面形成靜電電荷，達(dá)到混為排斥進(jìn)而不再團(tuán)聚的效果。

研磨分散機(jī)選型表

微納米氧化鋁漿料分散機(jī)