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制藥網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>儀器儀表>其它儀器儀表>其它儀器儀表>Huace1200G 高真空退火爐

  • 高真空退火爐
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參考價(jià) ¥ 10000
訂貨量 ≥1 臺
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
廠商性質(zhì)

生產(chǎn)廠家

型號

Huace1200G

訪問次數(shù)

1067

產(chǎn)地

北京市

更新時(shí)間

2025/12/10 14:58:24

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產(chǎn)品簡介

高真空退火爐產(chǎn)品參數(shù)

產(chǎn)地 國產(chǎn) 產(chǎn)品新舊 全新
自動(dòng)化程度 全自動(dòng)
可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護(hù)加熱式樣,無氣氛污染??稍诟哒婵眨?高出純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐。

高真空退火爐詳細(xì)信息

儀器介紹:

  華測儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)高精度,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器,在高速加熱高速冷卻時(shí),具有良好的溫度分布??蓪?shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護(hù)加熱式樣,無氣氛污染??稍诟哒婵?,高出純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐。

  它提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰?。同電阻爐和其他爐相比,紅外線反射退火爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間,再試驗(yàn)中也可改寫設(shè)定溫度值。從各方面講,都能節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度。同高頻爐相比,不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單,有冷卻系,安全可靠。以提高試驗(yàn)人員的工作效率,實(shí)現(xiàn)全新的溫度控制操作!


高真空退火爐


設(shè)備原理:


1. 輻射加熱

紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成,紅外線反射面拋光,鍍金,反高光。同時(shí)配置水冷裝置。


2. 紅外線燈

紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成,紅外線反射面拋光,鍍金,反高光。同時(shí)配置水冷裝置。


3. 反射光

反射鏡是用高精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型,一種是橢圓形的,另一種是拋物線型的,該模型rhl-e和vht-e系列有一個(gè)橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱,和其他模型:rhl-p,RHL PS和RHL PSS系列具有拋物線型反射器和適用于片狀樣品。



高真空退火爐 高真空退火爐


設(shè)備特點(diǎn)

1. 高速加熱與冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射鏡允許高速加熱到高溫。同時(shí)體可配置水冷,增設(shè)氣體冷卻裝置,可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。


2. 溫度高精度控制

通過紅外鍍金聚焦和溫度控制器的組合使用,可以精確控制樣品的溫度。此外,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高精度。


3. 清潔加熱

反射鏡是用高精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型,一種是橢圓形的,另一種是拋物線型的,該模型rhl-e和vht-e系列有一個(gè)橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱,和其他模型:rhl-p,RHL PS和RHL PSS


4. 不同環(huán)境下的加熱與冷卻

加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境,低溫(高純度惰性氣體靜態(tài)或流動(dòng)),操作簡單,使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。



















































更多應(yīng)用:

電子材料

半導(dǎo)體用硅化合化的PRA (加熱后急速冷卻)

熱源薄膜形成

激活離子注入后

硅化物的形成

陶瓷與無機(jī)材料

陶瓷基板退火爐

玻璃基板退火爐

鋼鐵和金屬材料

薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬

爐焊接模擬

高真空熱處理(1000°c以下)

大氣氣體熔化過程

壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗(yàn)爐

復(fù)合材料

耐熱性評價(jià)爐

無機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗(yàn)爐

其他

高溫拉伸壓縮試驗(yàn)爐

分段分區(qū)控制爐

溫度梯度爐

爐氣分析

超導(dǎo)陶瓷退火爐



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