離子除臭設(shè)備是由 離子發(fā)生器、離子發(fā)生管、控制系統(tǒng)組成、用來除臭、清除異味的空氣凈化設(shè)備，普遍應(yīng)用于新風(fēng)系統(tǒng)凈化、*空調(diào)室內(nèi)凈化、工廠、車間、污水站、垃圾除臭等場所。常見的有等離子除臭設(shè)備、高能離子除臭設(shè)備、光氫離子除臭設(shè)備、低溫等離子除臭設(shè)備、靜電除塵設(shè)備等等。離子除臭設(shè)備的主要原理是在高能電子的瞬時高能量作用下，產(chǎn)生大量正負(fù)離子，打開某些有害氣體分子的化學(xué)鍵，使其直接分解成單質(zhì)原子、基團(tuán)或無害分子。污水廠除臭設(shè)備型號工藝

光解催化氧化技術(shù)原理

利用220V低電壓高強(qiáng)度的寬波幅光子管發(fā)出特定波段能量均衡的雙波段光（185nm、254nm）照射廢氣，裂解廢氣中如：氨、*胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳、苯乙烯、VOC類、苯、甲苯、二甲苯等分子結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無機(jī)高分子污染物分子鏈，在高能紫外線光束照射下裂解，氧化成小分子化合物。

利用UV高能紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡，所以需與氧氣分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。

其反應(yīng)式為：

UV+O₂ → O^-+O⁺（游離氧）

O^-或O⁺+O₂ → O₃（臭氧）

運(yùn)用UV高能紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、CO₂和H₂O，再通過風(fēng)管排出。污水廠除臭設(shè)備型號工藝

UV光解催化氧化工藝流程

廢氣通過風(fēng)機(jī)輸送至裝置內(nèi)，在裝置產(chǎn)生的強(qiáng)氧化性物質(zhì)（臭氧）和紫外線及催化劑的作用下，被迅速裂解、氧化、降解成低分子化合物、水和二氧化碳，降解產(chǎn)生的小分子及未反應(yīng)的臭氧在堿吸收化學(xué)塔中被洗滌除去，實現(xiàn)達(dá)標(biāo)排放。