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  • Quorum Q150T新型高真空濺射鍍膜儀
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廠商性質(zhì)

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型號

訪問次數(shù)

3344

產(chǎn)地

江蘇南京市

更新時間

2018/12/6 14:07:16

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產(chǎn)品簡介

Quorum Q150T新型高真空濺射鍍膜儀產(chǎn)品參數(shù)

產(chǎn)地 國產(chǎn) 產(chǎn)品新舊 全新
Quorum Q150T新型高真空濺射鍍膜儀渦輪泵高真空鍍膜儀,可進行高性能精細顆粒鍍膜,適合場發(fā)射電鏡制樣應用以及制作無定形碳覆形膜及TEM柵網(wǎng)支持膜。

Quorum Q150T新型高真空濺射鍍膜儀詳細信息

Quorum Q150T新型高真空濺射鍍膜儀

基于內(nèi)部安裝的渦輪分子泵抽真空平臺,Q150T具有三種版本/型號的鍍膜儀:濺射、蒸發(fā)鍍碳和濺射/蒸鍍。在運用科技整體成型的機箱上,設有彩色觸摸屏,可允許多用戶輸入和貯存鍍膜方案。在同一個易使用系統(tǒng)中,根據(jù)所選擇的配置,Q150T可以是一臺具水準的離子濺射鍍膜儀用于高分辨掃描電鏡(SEM)制樣,也可以是一臺適合SEM或透射電鏡(TEM)應用的蒸發(fā)鍍碳儀,或者是一臺兼具濺射和蒸鍍兩功能的一體化鍍膜儀。Q150T具有快速濺射易氧化和不氧化金屬靶材的寬可選范圍的能力,使其也成為許多金屬薄膜研究及電極的應用等材料科學領域的一個理想鍍膜平臺。
 
高真空性能 
Q150T裝在一個堅固的特制整體成型機殼中,它容納了所有工作部件,包括空氣冷卻的渦輪分子泵。自動進氣控制保證了濺射期間、真空條件。真空腔室?guī)в蟹辣踩帧150T含有的“真空閉鎖”允許在不用設備時維持腔室真空,從而改善真空性能。 

Q150T系列三種型號 
Q150TS:高分辨率磁控離子濺射鍍膜儀,可濺射易氧化及不氧化金屬(貴金屬)??蛇x各種濺射靶材,包括常用于場發(fā)射電鏡的銥和鉻。 
Q150TE:高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀,可制作高穩(wěn)定性的碳膜和表面覆形膜,對透射電鏡(TEM)的應用非常理想。 
Q150TES:集合了濺射和蒸鍍兩種沉積鍍膜功能的鍍膜系統(tǒng),沉積鍍膜頭可在數(shù)秒內(nèi)快速更換,智能邏輯系統(tǒng)自動識別出所裝的鍍膜頭類型,并顯示相應的操作設置。 
上述每個型號還可選配一系列可選附件,如:金屬蒸鍍、碳絲蒸鍍、膜厚測量等。 

觸摸屏控制 
Q150T的操作核心為簡單的觸摸屏,即使不熟練的或偶而使用的操作者,儀器也能使其快速鍵入和貯存自己的處理數(shù)據(jù)。程序中已貯存了各種典型濺射及蒸發(fā)鍍膜的參數(shù)資料,以便提供進一步的易操作幫助。 

Quorum Q150T新型高真空濺射鍍膜儀鍍膜頭選項 
具有一系列可互換、即插即用的鍍膜頭: 
濺射頭,可使用易氧化及非氧化金屬兩大類寬范圍靶材;并可用另外的濺射頭來快速更換鍍膜材料(僅為TS及TES版本) 
碳棒蒸發(fā)頭 
碳絲蒸發(fā)頭 
金屬蒸發(fā)/光闌清潔頭,包括向上蒸發(fā)或向下蒸發(fā)兩種蒸發(fā)方式(僅為TE和TES版本) 

樣品臺選項 
Q150T具有各種樣品臺以滿足大部分的應用。所有的樣品臺更換容易,drop-in式樣(無需螺釘)并且高度可調(diào)(除旋轉(zhuǎn)行星臺)。標準配置為旋轉(zhuǎn)臺,可選: 
可預設傾斜角度的旋轉(zhuǎn)臺 
可變角度旋轉(zhuǎn)行星臺 
用于4”晶圓的平面旋轉(zhuǎn)臺 
用于顯微鏡載玻片的樣品臺 

其它選項 
用于高樣品的加高腔室 
膜厚監(jiān)測附件(FTM) 
用于測量低和高真空的全范圍真空計

Q150T系列全自動高真空離子濺射/熱蒸發(fā)一體化鍍膜儀給用戶以類似傻瓜相機的簡單操作、鍍膜質(zhì)量和對熟手/新手都很理想的用戶界面,讓用戶真正領略**的鍍膜品質(zhì)!


技術(shù)參數(shù):

● 工作腔室:150mm內(nèi)徑 x 127mm高 
● 觸摸屏全圖像用戶界面 
● 樣品臺:標配旋轉(zhuǎn)臺 
● 真空系統(tǒng): 
渦輪分子泵:帶有空氣冷卻的渦輪分子泵 
旋轉(zhuǎn)機械泵:雙級旋轉(zhuǎn)機械泵 
● 濺射電流:0-150mA;可預設膜厚(需FTM選項)或使用內(nèi)置定時器 
● 濺射時間:長60分鐘 
● 碳蒸發(fā):穩(wěn)定的無紋波直流電源控制的脈沖蒸發(fā),確保源自碳棒或碳絲的可重復蒸碳。 
● 金屬蒸發(fā)/光闌清潔頭:用于源自鎢絲籃或舟的金屬熱蒸發(fā)。 
● 尺寸和重量:儀器機箱:585mm寬x 470mm長 x 410mm高 (總高: 650mm) 
● 儀器總重量:33.4Kg

主要特點:

● 金屬濺射或碳蒸發(fā)或兩者兼?zhèn)洌阂惑w化設計,節(jié)約空間 
● 精細顆粒濺射:高分辨率場發(fā)射掃描電鏡(FE-SEM)制樣的精細鍍膜應用 
● 渦輪分子泵高真空系統(tǒng):允許不氧化貴金屬和易氧化其它金屬靶材的濺射鍍膜,大大拓寬了可濺射靶材范圍,既適合普通SEM、高分辨率FE-SEM鍍膜制樣應用,也為許多薄膜應用等材料科研領域提供理想的鍍膜平臺 
● 全自動觸摸屏控制:快速數(shù)據(jù)輸入,簡單操作 
● 可儲存多個客戶自定義鍍膜方案:對多用戶實驗室十分理想 
● 與鍍膜過程和鍍膜材料相匹配的預編程自動真空控制 
● 精細的厚度控制:使用膜厚監(jiān)控選項 
● “智能”式系統(tǒng)識別:自動感知用戶所裝的插入式鍍膜頭的類型 
● 高真空碳蒸鍍:對SEM和TEM鍍碳膜應用非常理想 
● 蒸發(fā)電流波形控制 
● Drop-in落入式快換樣品臺(標配旋轉(zhuǎn)臺) 
● 真空閉鎖功能:可讓工作腔室處于真空狀態(tài),改善后續(xù)真空效果,或在真空條件下保存樣品 
● 鍍制厚膜能力:一次真空條件下的濺射時間可長達60分鐘(材料科研領域的應用) 
● 人體工程學設計的整體成型機殼:易維護和易拆裝 
● 帶有本地FTP服務器連接的以太網(wǎng)端口:簡單的程序更新 
● 設有功率因素補償,有效利用電能,降低運行成本 
● 符合當前電器法規(guī)(CE認證)

關鍵詞:顯微鏡

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