反滲透純水設備的水中的導電介質幾乎*去除，同時不離解的氣體、膠體以及有機物（包括細菌）也去除至很低程度的水。組成部分是反滲透膜元件、壓力容器、高壓泵、配以合理而又高效的前處理設備及后處理精脫鹽設備。

反滲透純水設備的產水量：0.5m3/H-100m3/H、回收率：75%；操作壓力：0.6Pa-1.5Mpa。產水電導率一般為0.1~0.055uS/cm，出水電阻率：0.5-15MΩ.CM；含鹽量<0.1㎎/L.理想純水(理論上)電導率為0.055 uS/cm。

的處理工藝是：源水→源水泵→機械過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→一級反滲透膜→二級反滲透膜→TOC脫出器→EDI系統(tǒng)。工藝特色是

1. 低壓開關保護高壓泵不會因供水停止而損壞；
2. 高效率、低噪音的高壓泵，降低運行噪音，減少耗電。脫鹽率高，運行壓力低的卷式復合膜提高了產水水質及降低運行成本，且使用壽命長；
3. 產水、濃水各設有流量計以監(jiān)視并調節(jié)運行出水量及系統(tǒng)回收率。產水電導率表連續(xù)監(jiān)視產水水質。
4. 污染物去除率脫鹽率：99.8% 有機物去除率：>150MW 細菌隔除率：>99% 熱原去除率：>99% 顆粒去除率：>99% 進水要求：污染指數(SDI)：<5 余氯：<0.1mg/L PH：5-8 水溫：4°-40℃。

應用：1、半導體材料、超導器件、印刷電路板和集成電路成品、清洗使用用純水；2、超純材料和超純化學試劑勾兌用超純水；3、實驗室和中試車間用超純水；4、汽車配件、電鍍表面拋光沖洗使用純水；5、光學微電子產品沖洗使用純水；6、超純材料和超純化學試劑生產使用純水；7、實驗室和中試車間生產及沖洗使用純水；8、精細化學品生產使用純水；9、食品飲料、食品添加劑生產使用純水；10、制藥行業(yè)使用純水；11、其他新興產品需要超高純水清洗用的純水等。